本文所涉及的一组纺织品残片出土于敦煌莫高窟北区121窟，此窟为北区里面第三层石窟，亦属于D段崖面第三层石窟。121窟存一遗骨，遗骨无头骨及上肢，自胸椎以下包括盆骨及下肢尚完整，且肌腱尚未完全腐烂，脊椎及肢骨之关节部位尚有肌腱相连。依宽骨及耻骨联合面的形态判断，该个体应为一20～22岁青年女性。

本组纺织品登记号分别为：B121:5（4片）、B121:6（1片）、B121:8（15片）及B121:10（1片），此组残片在原始记录中为同一组文物。从大部分残片的特征看，应属同一件纺织品。但B121:8中9片原色棉布残片明显与其他残片不属于同一件纺织品，织锦残片B121:10也暂无明显证据证明其同属一件纺织品，因此，这10件残片单独保护，本文不予讨论。

基本信息

为便于研究，将每块残片分别编号：B121:5（01-04号）、B121:6（05号）及B121:8（06-11号）。

01号残片为红绫，由两片拼缝而成，左片为完整幅宽，左侧边缘内残留有一小块绢片。右片左侧有幅边，右侧断裂。整块纺织品上端断裂，边缘可见两处褶子，下端有缝线痕迹；02号残片为红绫，左侧为幅边，其余三边断裂；03号和04号残片亦为红绫，边缘均呈断裂状；05号残片仍为红绫，近似长方形，无幅边；06号残片含绫与粗棉布两部分，右侧为二者缝合的边缘，可见缝线。绫由一块红绫与多块大小不一的黄绫（疑为红绫褪色所致）拼缝而成，红绫下端有缝线痕迹。粗棉布为平纹，一侧有幅边，底端有缝边折痕；07号残片为粗棉布，上端缝合一块残留的红绫，并打褶，棉布有两幅边，底端有缝边折痕；08号残片主体为一细长形粗棉布，上端残留有缝合于一起的小块绢，其底端有缝边折痕；09号至11号残片均为粗棉布，两侧或一侧保存有幅边，09号与10号底端有缝边折痕，并残留有彩色缝线（图1）。

图1  残片编号

保存情况

由于受尸骨腐蚀及后人扰动的影响，本组纺织品受损程度严重。统计其病害主要有如下几种：残缺、破裂、褪色、污染、糟朽、皱褶等（图2）。

图2  纺织品受损情况

通过对本组残片的病害调查与分析（图3），可知其总体保存状况较差，病害程度严重，其中尤以绫织物为甚，因此急需采取有效的保护措施，避免病害程度的进一步发展。同时，考虑到展览的需要，决定对本组纺织品残片实施保护修复，以期达到保护的目标，并恢复其原有形制，使其具有较好的展示效果，从而充分体现文物的历史价值与艺术价值。

图3-1  01、03-05号 残片病害图

图3-2  06号残片病害图

图3-3  02、07-11号残片病害图

分析检测

通过相关仪器设备对绫袍进行纤维、织物结构、染料等方面的测试，为修复用背衬织物的选择、染色、色彩复原研究等提供依据。

1、纤维

对纤维采用的分析方法为截面切片法。采用哈氏切片法制作切片，在生物显微镜（Zeiss Scope A1，德国蔡司）下进行截面观察。

2、织物结构

使用三维视频显微镜（VHX2000C，日本基恩士）采集不同品种织物的图像（30倍），并分析其组织结构、经纬密度等。

3、染料

采用微型光纤光谱技术对面料进行染料检测，分析其所用染料品种。该技术的主要设备为微型光谱仪（QE65000，海洋光学），卤素灯光源（LS-HAL，浙江雷畴），定制400μm光纤探测器（海洋光学），定制光具座（浙江雷畴）。

以上各项测试结果见表1。

表1  红莲鱼龙纹绫袍分析检测结果

图4  红绫纹样（上为实物照片，下为绘制纹样）

图5  红色水波纹绫纹样

形制研究与复原

本组纺织品均为残片，较为零散，所以实施保护修复前需先确定纺织品原有形制，并根据研究结果对其形制进行复原，以保证修复工作的顺利开展。

1、形制研究

11块残片形状不同，大小不一，似无明显类别特征。但从织物材质及几处细节上可以推断出应属同一件服装，形制为上下两截相连、腰部打褶的红色绫袍。具体分析过程详见后文。

（1）06号、07号和08号三件残片均为为两种或两种以上织物的拼合，可知此件服装具有面料及衬里；06号具一侧完整的边缘，从其尺寸看，极可能是一件服装的门襟边缘。再结合其余残片的形状及尺寸，可初步断定这一组残片从属于同一件服装，且应为上装。并且，从缝制细节及常规推断，绫为面料，而绢和粗棉布为衬里（图6）。

图6  06号粗棉布的边缘略短于绫

（2）从06的缝制方式可知此片应为服装右襟，又因其面料由两种绫拼合而成，且波纹绫更是由多块大小不一的织物拼合而成（图7），可以推断应为里襟，从而可知此件服装为右衽。

图7  由多块织物拼合的波纹绫面料

（3）06的粗棉布下端边缘有约5-6mm宽的向上折痕，应为服装下摆边缘（图8）。另，红绫面料的上端边缘有缝线痕迹，结合其高度（至底部76cm），所残留缝线极有可能为腰部的缝线。

图8  06号粗棉布下边缘的折痕，残留有小段缝线

（4）01上端断裂边缘残存两处由缝线固定的褶，每褶宽约1.5cm（图9），且其高度与06号残存的绫织物高度接近，边缘的褶很可能为腰部褶皱，此件应为下裳左片。

图9  01号上端断裂处的褶子（分别位于①和②两处）

（5）08残留了绫、绢及棉布三种织物。从图10左图可见，与棉布衬里缝在一起的有两层莲鱼纹绫织物，两层绫正面相对而缝，即上层正面朝内，下层正面朝外。从缝制规律可知，上层绫应为上衣部分面料，下层绫应为下裳部分面料。并有残留褶裥，宽约1.5cm。且残片总体高度与06一致。综合以上可以确定，该服装为上衣下裳相连、腰部打褶的绫袍。

图10  08号残片残留的红绫面料和绢衬里上端（上图为正面，下图为反面）

（6）07为一整幅粗棉布，上端残留一块缝合的红色绫，且缝合处打褶。棉布下边缘同样有上翻的折痕，其高度与06及08均一致（图11）。由此，进一步验证了前述推断的合理性。

图11  07号上端的红色绫与粗棉布同时打褶，且正面与缝线位于同一面

（7）从面料幅宽、拼缝规律，及09右侧幅边的特点，并参考黄色卍字纹绫袍（图12），推知此袍下裳应为两片相拼、背后部分相叠的形式。

图12  黄色卍字纹绫袍（中国丝绸博物馆藏 元）

从06、07及08号残片的高度可确定腰及下摆边缘的尺寸为76cm，腰部打褶依据06号和08号所存信息定为褶宽1.5cm，间隔1.5cm。其余部位则根据现有尺寸，并结合裁剪用布最节省原则来确定，领袖采用常规的交领窄袖。根据以上形制及尺寸的推断绘制形制图（图13）。

图13  绫袍形制图（依次为正面、背面、右襟）

根据前述推断，01号和06号的位置已明确。07-10号亦均可见下摆边缘的痕迹，位置基本可定。其余小块残片则结合形状及污染物部位，可大致推测其在绫袍下摆中的位置（图14）。

图14  残片位置分布图（左图为左襟，右图为右襟）

2、形制复原

修复前，为验证对服装形制的推断，了解绫袍的制作工艺，首先进行形制复原。即选用现代面料，根据绫袍的形制及工艺，制作一件相同款式的服装。本次复原件尺寸与原文物的比例为1:2（图15）。

图15  复原的绫袍，左图为正面，右图为背面

保护修复

1、技术路线

根据对本批残片的病害调查，可知织物的牢度尚可承受针线穿缝力度，所以选用传统的针线缝合加固法进行修复。即选用与文物风格相近的现代面料作为背衬织物，衬垫于文物破损处，采用适当的针法，将二者缝合起来，以达到加固破损织物的目的。考虑到本件纺织品缺失较多，所存亦为零散残片，且各残片也有较多破损，所以修复时采用全衬垫的方式，即绫袍整体加衬一层背衬织物。依绫袍形制裁剪背衬织物后，将相应部位衬入文物之下，与文物缝合。修复技术路线如下：

清洗→平整文物→背衬织物染色→剪裁背衬织物→将文物面料和衬里分别与背衬织物缝合→拼合

2、修复步骤

清洗。本组残片中08号局部污染较重，需经清洗试验确认可行后尽量将污物去除，方可实施修复。清洗时，将残片置于真空低压清洗台上，用纯净水进行清洗。污染处用软毛刷轻柔刷洗，至大部分污染物去除。

准备背衬织物。选用厚型电力纺作为绫袍面料的背衬织物，选用粗平纹紬为衬里的背衬织物。以酸性化学合成染料对两种背衬染色，染后平整。并根据裁剪图，剪裁出绫袍各部位。

平整文物。此批残片皱褶及变形较为严重，所以对其平整非常关键。平整时，先对纺织品回潮，展平褶皱，调整经纬线，压放重物，自然干燥后，移去重物。如仍未恢复原状，在确保文物强度的前提下，继续重复上述步骤两至三次。

缝合加固。将里襟和外襟衬布分别衬于平整后的文物下方，各残片按位置分布摆好，再次调整经纬方向，主要运用铺针，分别对面料及衬里的各残片进行修复。

拼合。依绫袍形制，将修复后的面料及衬里各部位拼合（图16）。

图16-1 红色绫面料破损部位修复后（正面）

图16-2 红色绫面料破损部位修复后（背面）

结语

纺织品文物修复的目的一是为了保护文物，二是为了展现文物价值；修复的依据则是文物所保留下来的信息及相关资料；而修复的原则是以保持文物的原真性。本文中红色莲鱼龙纹绫袍的修复达到了保护文物的目的，考虑到文物的艺术价值及陈列展示的效果，其袖形及部分尺寸细节在一定程度上是通过间接推测或借鉴所得。因本文物修复所用的针线缝合法为纯物理方法，将来如有更详实确凿的资料，不确定部分仍可拆除，重新进行修复。

文章来源：

王淑娟：敦煌莫高窟北区出土元代红色莲鱼龙纹绫袍的修复与研究，载《千缕百衲：敦煌莫高窟出土纺织品的保护与研究》，艺纱堂/服饰工作队，香港，2014，pp.54-62

本文撰写：王淑娟

修复：王淑娟、楼淑琦、戴惠兰、王晓斐、徐青青

绘图：李君、王乐

摄影：姚思敏